제품소개
"성실과 신뢰를 바탕으로 기술 창조, 고객과 함께 하는 에이티㈜가 함께 하겠습니다."
Plasma source
Sputter Source
에이티㈜는 스퍼터 장비에 적용되는 planar magnetron sputter source를 장비와 별도의 제품으로 공급을 하고 있습니다. 다년간 장비 제조기술을 바탕으로 다양한 스퍼터 장비에 적용할 수 있는 최적화된 플라즈마 소스로 제공하고 있습니다. Planar magnetron cathode는 Static/Moving magnetron의 형태로 제공하고 있으며, 일반 진공증착장비, In-line 스퍼터장비, R2R 스퍼터장비 및 Cluster 증착장비 등 다양한 진공장비에 적용할 수 있습니다.
장비 사양
에이티㈜의 R2R 증착장비 제작 방식은 고객의 생산 제품을 최적의 효율로 생산할 수 있도록 주문자 요청 사양에 기반을 두고 있습니다. 이를 기반으로 아래의 공통 사양을 반영하여 장비 제작 및 공급을 하고 있습니다.
| 구분 | Single planar cathode | Dual planar cathode |
| 전원장치 | DC, Pulse DC, RF | DC, Pulse DC, Bipolar Pulse DC, AC |
| DDR(*) | ≥ 150nmㆍm/min @Cu | ≥ 300nmㆍm/min @Cu |
| ≥ 30nmㆍm/min @ITO | ≥ 50nmㆍm/min @ITO | |
| 타켓소모 | ≥ 35% | ≥ 35% |
| Backing plate | Direct / Indirect cooling type | |
| Magnet 형태 | Static / Moving magnet 방식 | |
| 타겟 최대길이 | 2,500mm | |
| 적용장비 | In-line / R2R / Cluster / 일반산업용 증착장비 | |